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科研成果
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On the mechanism of chemical vapor deposition of Ta
2
O
5
from TaCl
5
and H
2
O. An ab initio study of gas phase reactions
M. Siodmiak,
G. Frenking
, A. Korkin
University of Marburg
Motorola
科研成果
:
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会议文章
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同行评审
5
引用 (Scopus)
综述
指纹
指纹
探究 'On the mechanism of chemical vapor deposition of Ta
2
O
5
from TaCl
5
and H
2
O. An ab initio study of gas phase reactions' 的科研主题。它们共同构成独一无二的指纹。
分类
加权
按字母排序
Chemistry
Chemical Vapor Deposition
100%
Gas Phase Reaction
100%
DFT-B3LYP Calculation
50%
CCSD
50%
Transition State
50%
formation
25%
Quantum Chemical Calculations
25%
Møller-Plesset Perturbation Theory
25%
Vibrational Frequency
25%
Tantalum
25%